Black Clean
Süsi mask-kile naole aktiivsöega T-tsoonile Black Clean
Näomask eemaldab mustad täpid täielikult ja vabastab naha koheselt toksiinidest ja mustusest, ühtlustab naha tooni ja pinna leevendust, toidab ja kaitseb nahka, muudab naha pehmeks ja siidiseks. Kilemask sisaldab aktiveeritud musta süsinikku, mis aitab kaasa naha sügavamale puhastamisele. Mask moodustab nahale heleda musta kile, mis eemaldab tõhusalt mustad pistikud. Ei kuivata nahka. Kasutamine: kandke mask-kile õhukese ühtlase kihina puhastatud näonahale, vältides silmaümbrust. Laske maskil täielikult kuivada (umbes 20 minutit), seejärel eemaldage moodustunud kile.
Koostis:
Aqua (Water), Alcohol, Polyvinyl Alcohol, Glycerin, Melia Azadirachta (Margosa) Leaf Extract, Arctium Lappa (Burdock) Root Extract, Lecithin, PEG-8, CI 77266 (Carbon), Salicylic Acid, CI 77499 (Iron Oxides), Propanediol, Xantxan Gum, Sodium Citrate, Betaine, Parfum (Fragrance), Menthol, Mentha Piperita (Peppermint) Oil, Linalool
Mask näole “Black Clean”, puhastav
Näomask eemaldab mustad täpid täielikult ja vabastab naha koheselt toksiinidest ja mustusest, ühtlustab naha tooni ja pinna leevendust, toidab ja kaitseb nahka, muudab naha pehmeks ja siidiseks. Kasutamine: kandke mask paksu kihina eelnevalt puhastatud näonahale, vältides silmaümbrust. Jätke see 15-20 minutiks toimima, seejärel peske veega. Seejärel kandke niisutavat kreemi. Korrake protseduuri 1-2 korda nädalas.
Koostis:
Aqua (Water), Kaolin, Propylene Glycol, Cetyl Alcohol, Glyceryl Stearate, PEG-75 Stearate, Ceteth-20, Steareth-20, Caprylic/Capric Triglyceride, Cyclopentasiloxane, Cyclohexasiloxane, Emulsifying Wax, Glycerin, Ceresine, Oryza Sativa (Rice) Starch, CI 77266 (Carbon), Illite, Kaolin, Montmorillonite, Calcite, Phenoxyethanol, Methylparaben, Ethylparaben, Propylparaben, Parfum (Fragrance), Xanthan Gum, 2-Bromo-2-Nitropropane-1,3-Diol, Citric Acid, Sodium Hydroxide, Linalool, Hexyl Cinnamal